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產品名稱：場發射掃描電子顯微鏡

產品型號：GeminiSEM 460

產品品牌：ZEISS 蔡司

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產品詳情

GeminiSEM 460 場發射掃描電子顯微鏡（FE-SEM）

● FE-SEM滿足亞納米成像、分析和樣品靈活性的高要求

蔡司GeminiSEM可助您輕松實現亞納米級分辨率的成像。出色的成像和分析技術更使FE-SEM（場發射掃描電子顯微鏡）如虎添翼。采用創新的電子光學系統和全新樣品倉設計，不僅操作更加簡便，用途更加靈活多樣，還可為您帶來更高的圖像質量。無需水浸物鏡即可拍攝低于1 kV的亞納米級圖像。

蔡司Gemini電子光學系統的三種設計：

●　GeminiSEM 360 — 分析測試平臺的理想選擇

●　GeminiSEM 460 — 實現高效分析

●　GeminiSEM 560 — 表面成像的新標準

兼顧高分辨率和高電流

★　GeminiSEM 460專為應對要求嚴苛的分析任務設計，可實現高效分析和自動化的工作流程。

★　快速執行高分辨率成像和分析：使用Gemini 2鏡筒，從低束流-低電壓工作條件無縫切換到高束流-高電壓工作條件（或反之）。

★　同時，可使用多個探測器對任意樣品進行全方位表征。

★　利用多功能樣品倉進行高效分析，還可選擇合適的分析探測器。

★　在全新的VP模式下，調高電流，獲得計數率達4000點/秒的EBSD成像。

★　通過兩個幾何對稱的EDS端口和共面式EDS/EBSD配置，可以檢測化學組分和晶體取向，實現高速、無陰影的EDS/EBSD成像。

定制自動化工作流

★　由于擁有如此強大的分析能力，工作流程的自動化便顯得至關重要。使用蔡司的Python腳本API，可創建并配置屬于您的自動化實驗流程。

★　根據您的個性化需求修改實驗流程并量身定制想要的效果。

★　充分利用STEM斷層掃描成像功能：將自動傾斜和旋轉功能與特征跟蹤功能有效結合，在將所有對齊的圖像發送至專屬三維重構軟件后，可構建具有納米級分辨率的三維斷層成像。

★　若需要測試材料承受極限，提供執行自動化原位加熱和拉伸實驗的實驗平臺，在實驗過程中，可自動為您呈現材料在加熱和拉伸下的情況，并實時繪制應力應變曲線。

為您帶來更多可能性

★　以Gemini 2鏡筒的設計為基礎，在用于材料和生命科學領域時，超高可調電流密度條件下的分析能力顯著提升，即使在低電壓條件下亦是如此。

★　可充分利用各種配件來升級系統。例如，不僅可以加入分析設備，還可使用原位實驗設備、冷凍成像和納米探針設備對多功能樣品倉進行配置。存儲器可讓您連接到實驗室中不同設備采集的數據，從而能夠集中管理項目。

★　在使用設備期間，可隨時輕松裝配和升級各種配置。

★　所有GeminiSEM均加入了蔡司ZEN core生態系統，通過這項功能，您可訪問ZEN Connect、ZEN Intellesis及ZEN的分析模塊，幫助您生成報告和實現GxP工作流程。

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●　Gemini 1

基本原理簡介

FE-SEM專為高分辨率成像設計，性能的一個關鍵是其電子光學鏡筒。Gemini是為實現任何樣品的出色分辨率而特別設計的（尤其在低加速電壓下），可實現完整高效的探測，且操作簡單。

Gemini 1光學鏡筒包含電子束推進器、Inlens探測器和Gemini物鏡。

Gemini電子光學系統有以下三個主要特征：

✔ Gemini物鏡的設計結合了靜電場與電磁場，在大幅提升光學性能的同時大大降低了對樣品的影響。如此也可實現對磁性材料等具有挑戰性的樣品的高品質成像。 ✔ Gemini電子束推進器技術是一種集成光束減速器，確保了小尺寸的電子束斑和高信噪比。 ✔ Gemini Inlens的探測設計原理通過同時探測二次電子（SE）和背散射電子（BSE），大幅縮短到圖像的時間，確保了高效的信號探測。

針對您的應用，可以有以下優勢：

✔ SEM電子束對準可長期保持穩定，改變探針電流和加速電壓對系統幾乎沒有影響。 ✔ 幾乎無磁場泄露的光學系統可實現無失真高分辨率成像。 ✔ 使用Inlens SE探測器，可通過真正的表面敏感性SE 1電子技術生成圖像，從而只獲得樣品最頂層的信息。 ✔ 使用Inlens EsB探測器的探測設計理念，在非常低的電壓下獲得真實的材料成分襯度。

●　Gemini 2

充分利用快速分析

任何樣品的全面表征都需要高性能的成像和分析，另外，如今的用戶都希望設備易于設置和操作。Gemini 2光學系統能滿足這些需求。

Gemini技術。Gemini 2電子光學鏡筒截面示意圖，包含一個雙聚光鏡、電子束推進器、Inlens探測器和Gemini物鏡。

高分辨率成像與分析可無縫切換

✔ GeminiSEM 460配備具有雙聚光鏡的Gemini 2光學系統。 ✔ 連續調整電子束的電流強度，同時優化束斑大小。 ✔ 可在低束流的高分辨率成像與高束流的分析模式之間進行無縫切換。 ✔ 在更改成像參數后無需進行校準，省時省力。

保持靈活，高效工作

✔ 保持靈活：使用高電子束能量密度在低束流和高束流下進行高分辨率成像和分析，不受您選擇的電子束能量影響。 ✔ 樣品不會暴露于磁場中：實現了大觀察視野內的無失真EBSD圖案和高分辨率成像。 ✔ 樣品傾斜轉動時不影響電子光學系統的性能，磁性樣品也能輕松成像。 ✔ 選擇適合樣品的消荷電模式：局部電荷補償、腔室內可變壓力或NanoVP。

●　Gemini 3

在低于1 kV條件下成像——整合專業知識

Gemini 3光學系統優化了低電壓和極低電壓下的分辨率并實現了襯度增強，確保從1 kV到30 kV的所有工作條件下成像效果可達高分辨率且包含兩個彼此協同運作的組件：Nano-twin物鏡和全新的電子光學引擎Smart Autopilot。此外，它還具有高分辨率電子槍模式和可選的樣品臺減速技術（Tandem decel）。 分辨率模式——讓您看到更多細節 通過兩種模式可獲得SEM圖像的更多細節和更多探測信號。在高分辨率電子槍模式下，電子束色差降低，從而實現了更小的束斑；在樣品臺減速技術模式下，為樣品施加減速電壓，從而可進一步提高1 kV以下的圖像分辨率并增強背散射探測器的檢測效率。

Gemini 3鏡筒的全新光學設計。GeminiSEM 560的截面示意圖。Nano-twin物鏡（紅色），Smart Autopilot（藍色）。

Nano-twin物鏡的優勢：

✔ 在低電壓和超低電壓下達到亞納米級分辨率，實現更出色的信號探測效率。 ✔ 與標準Gemini物鏡相比，在低電壓下的物鏡像差降低了三倍，從而使樣品上的磁場降低了三倍，約為1 mT。 ✔ 優化幾何結構和靜電場及磁場分布。 ✔ Inlens探測器在低電壓成像條件下的信號得到增強。 ✔ 這些特性提供了在低于1 kV的條件下完成亞納米級成像的能力，而無需將樣品浸入電磁場中。

工作原理：

✔ Smart Autopilot優化了通過鏡筒的電子軌跡，從而確保了在每個加速電壓下盡可能高的分辨率。 ✔ 該自動功能實現了在整個放大倍率范圍內（從1倍到2,000,000倍）的無縫對準自由切換，并將觀察視野增加了10倍，從而可以在單幅圖像中對13 cm的物體成像。 ✔ 32k×24k的圖像存儲分辨率與新的概覽模式相結合，確保在超大觀察視野內獲得無拼接的像素密度。

GeminiSEM 460 場發射掃描電子顯微鏡（FE-SEM）

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FE-SEM滿足亞納米成像、分析和樣品靈活性的高要求

蔡司Gemini電子光學系統的三種設計：

● GeminiSEM 360 — 分析測試平臺的理想選擇

● GeminiSEM 460 — 實現高效分析

● GeminiSEM 560 — 表面成像的新標準

兼顧高分辨率和高電流

★ GeminiSEM 460專為應對要求嚴苛的分析任務設計，可實現高效分析和自動化的工作流程。

★ 快速執行高分辨率成像和分析：使用Gemini 2鏡筒，從低束流-低電壓工作條件無縫切換到高束流-高電壓工作條件（或反之）。

★ 同時，可使用多個探測器對任意樣品進行全方位表征。

★ 利用多功能樣品倉進行高效分析，還可選擇合適的分析探測器。

★ 在全新的VP模式下，調高電流，獲得計數率達4000點/秒的EBSD成像。

★ 通過兩個幾何對稱的EDS端口和共面式EDS/EBSD配置，可以檢測化學組分和晶體取向，實現高速、無陰影的EDS/EBSD成像。

定制自動化工作流

★ 由于擁有如此強大的分析能力，工作流程的自動化便顯得至關重要。使用蔡司的Python腳本API，可創建并配置屬于您的自動化實驗流程。

★ 根據您的個性化需求修改實驗流程并量身定制想要的效果。

★ 充分利用STEM斷層掃描成像功能：將自動傾斜和旋轉功能與特征跟蹤功能有效結合，在將所有對齊的圖像發送至專屬三維重構軟件后，可構建具有納米級分辨率的三維斷層成像。

★ 若需要測試材料承受極限，提供執行自動化原位加熱和拉伸實驗的實驗平臺，在實驗過程中，可自動為您呈現材料在加熱和拉伸下的情況，并實時繪制應力應變曲線。